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J-GLOBAL ID:200903060838643920
放射線治療装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
宮田 金雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997104831
Publication number (International publication number):1998300899
Application date: Apr. 22, 1997
Publication date: Nov. 13, 1998
Summary:
【要約】【課題】 荷電粒子ビームが回転走査されて散乱体に入射されると、コリメータの形状がたとえ患部形状に応じて設定されていたとしても、照射面では荷電粒子ビームに半影が生じて均一な等線量分布の荷電粒子ビームを照射することができなかった。【解決手段】 荷電粒子線の軌道上に第1の走査手段と逆方向の第2の回転磁場を発生させる第2の走査手段とを設け、この第2の走査手段の第2の回転磁場により荷電粒子線に生じる半影を抑制する。
Claim (excerpt):
荷電粒子線の軌道上に設けられた散乱体と、この散乱体により散乱された荷電粒子線の線量を検出する線量モニタと、上記散乱体により散乱された荷電粒子線のビーム形状を被照射体の形状に合わせて変化させるコリメータと、上記荷電粒子線の軌道上に設けられ、上記荷電粒子線の軌道上に第1の回転磁場を発生させる第1の走査手段と、上記荷電粒子線の軌道上に設けられ、上記第1の回転磁場と逆方向の第2の回転磁場を発生させてこの第2の回転磁場により上記荷電粒子線を回転走査させる第2の走査手段とを備えたことを特徴とする放射線治療装置。
IPC (2):
FI (2):
G21K 5/04 A
, G21K 1/093 S
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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重荷電粒子線原体照射用不均一リッジフィルターシステム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-300076
Applicant:筑波大学長
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特公昭39-030378
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特開昭60-213000
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ビーム照射方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-091900
Applicant:株式会社日立製作所, 日立エンジニアリング株式会社
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特公昭42-007037
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特開昭57-141852
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特公昭39-007550
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荷電粒子照射装置およびその運転方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-232111
Applicant:株式会社日立製作所
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特公昭39-030378
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特開昭60-213000
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特公昭42-007037
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特開昭57-141852
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特公昭39-007550
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