光ディスクのフォトレジスト原盤及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：柏木明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998006354
Publication number (International publication number)：1999203731
Application date： Jan. 16, 1998
Publication date： Jul. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】深さが異なるグルーブ及びピットを同じ原盤に形成し、且つ、第一層目と第二層目との間に段差がないピットを得る。【解決手段】ガラス基板1上に第一フォトレジスト層2を形成し、第一フォトレジスト層2上に酸化膜からなる中間層3を形成し、中間層3上に第二フォトレジスト層4を形成し、第二フォトレジスト層4を感光させる第一の光Aと第二フォトレジスト層4及び第一フォトレジスト層2を感光させる第二の光Bとによりグルーブ5及びピット6を形成し、第二フォトレジスト層4を現像し、中間層3を除去し、第一フォトレジスト層2を現像することにより光ディスクのフォトレジスト原盤7を製造する。ここで、第一フォトレジスト層2の感光感度特性は、第二フォトレジスト層4の感光感度特性よりも高い。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に第一フォトレジスト層と酸化膜からなる中間層と前記第一フォトレジスト層よりも感光感度特性の低い第二フォトレジスト層とを順次形成し、前記第二フォトレジスト層の形成後前記第二フォトレジスト層を感光させる第一の光と前記第二フォトレジスト層及び前記第一フォトレジスト層を感光させる第二の光とにより露光してグルーブ及びピットを形成し、前記第一の光及び前記第二の光とによる露光後前記第二フォトレジスト層を現像し、第二フォトレジスト層の現像後前記中間層を除去し、前記中間層の除去後前記第一フォトレジスト層を現像する光ディスクのフォトレジスト原盤の製造方法。

IPC (2)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/26 511

FI (2)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/26 511

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

光ディスク原盤及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-122339 Applicant：株式会社リコー

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