マイクロエレクトロニクス構造体用電子ビーム加工膜

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：社本一夫 (外5名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997503125
Publication number (International publication number)：1999506872
Application date： Jun. 04, 1996
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：

【要約】マイクロエレクトロニック用途に使用するための誘電膜でコートされた支持体を製造する方法であって、該コーテッド支持体表面を電子ビームの束に曝すことにより該膜が加工される方法。電子ビーム暴露により硬化された支持体は、優れた誘電特性、密度、均一性、熱安定性、及び酸素安定性を有する。

Claim (excerpt)：

支持体上に誘電性物質を硬化させる方法であって、 (a)前記支持体の表面に誘電性物質を適用すること;及び (b)前記誘電性物質を、該誘電性物質を膜に硬化するのに十分な条件下で電子ビーム照射に曝すことを含む方法。

IPC (2)：

H01L 21/316 , H01L 21/027

FI (3)：

H01L 21/316 G , H01L 21/316 P , H01L 21/30 541 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

特開昭62-086062
特開昭60-235441
特開昭56-040261

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