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J-GLOBAL ID：200903061154801167

インプリント・リソグラフィ・システム

Inventor： スリニーヴァッサン,シトルガタ・ヴイ ,  シューメイカー,フィリップ・ディ ,  マックマッキン,イアン・エム
Applicant, Patent owner： モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
Agent (2)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009504286
Publication number (International publication number)：2009532908
Application date： Apr. 03, 2007
Publication date： Sep. 10, 2009
Summary：

本発明は、レベル0(インプリント又はフォトリソグラフィ又は電子ビーム等によってパターニングされる)及びレベル1(インプリントによってパターニングされる)に対するパターニングされたフィールドの形状の選択を対象とし、その結果、一緒に碁盤目状にされたときこれらの形状が、周辺凹部によって生じるオープン領域を解消する。

Claim (excerpt)：

レベル0とレベル1のレイアウトが、アクティブ・インプリント・フィールドの間の境界にオープン領域がないように、互いに碁盤目状をした形状を有するインプリント・リソグラフィ・システム。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 B

F-Term (15)：

4F209AC05 ,  4F209AD04 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA26 ,  5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-154089   Applicant：株式会社日立製作所
• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-127481   Applicant：株式会社ニコン

Cited by examiner (2)

• 半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-154089   Applicant：株式会社日立製作所
• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-127481   Applicant：株式会社ニコン