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J-GLOBAL ID：200903061258942544

ホスフェートの製造方法

Inventor：
平尾 清春

About 平尾 清春

, 
小田 将吾

About 小田 将吾


Applicant, Patent owner：
大八化学工業株式会社

About 大八化学工業株式会社


Agent (1)： 三枝 英二 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999141726
Publication number (International publication number)：2000327688
Application date： May. 21, 1999
Publication date： Nov. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】原料成分を含まない高純度な製品を得ることができるホスフェートの製造方法を提供する。【解決手段】(1)ヒドロキシ化合物とリン化合物とを反応させて反応粗生成物を得る工程、及び(2)該反応粗生成物を水蒸気蒸留によって処理する工程、を含むホスフェートの製造方法であって、有機溶媒を連続的又は間欠的に添加しつつ、(b)工程の水蒸気蒸留を行うことを特徴とするホスフェートの製造方法。
Claim (excerpt)：
(a)ヒドロキシ化合物とリン化合物とを反応させて反応粗生成物を得る工程、及び(b)該反応粗生成物を水蒸気蒸留によって処理する工程、を含むホスフェートの製造方法であって、有機溶媒を連続的又は間欠的に添加しつつ、(b)工程の水蒸気蒸留を行うことを特徴とするホスフェートの製造方法。
IPC (3)：
C07F 9/12 ,  C08K 5/523 ,  C08L101/16
FI (3)：
C07F 9/12 ,  C08K 5/523 ,  C08L101/00
F-Term (25)：
4H050AA02 ,  4H050AA03 ,  4H050AB50 ,  4H050AB80 ,  4H050AD14 ,  4H050BB11 ,  4H050BB12 ,  4H050BC51 ,  4H050BE54 ,  4H050BE60 ,  4H050WA15 ,  4H050WA23 ,  4J002BB001 ,  4J002BC021 ,  4J002BN151 ,  4J002CC031 ,  4J002CD001 ,  4J002CF001 ,  4J002CG001 ,  4J002CH071 ,  4J002CK021 ,  4J002CL001 ,  4J002CM041 ,  4J002EW046 ,  4J002FD136
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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