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J-GLOBAL ID:200903061295576620

表面の異常を検査するための走査システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井ノ口 壽
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996517819
Publication number (International publication number):1998510359
Application date: Dec. 08, 1995
Publication date: Oct. 06, 1998
Summary:
【要約】表面の検査を高い感度で高い処理能力で行うシステムは焦点合わせさせられた光ビームを検査されるべき表面に全反射の角度で向ける。前記ビームと前記表面間に前記ビームが前記表面の全てを実質的にカバーし、通路で散乱させられた光が異常検出のために集められるような相対運動が惹起させられる。前記走査の通路はまっすぐな走査通路区分の複数のアレイから構成されている。前記焦点合わせされた光ビームは幅が5〜15ミクロンの範囲で前記表面領域を照明し、このシステムは、150mm直径のウェーハ(6インチウェーハ)を毎時40ウェーハ以上、200mm直径のウェーハ(8インチウェーハ)を毎時20ウェーハ以上、300mm直径のウェーハ(12インチウェーハ)を毎時10ウェーハ以上の検査が可能である。
Claim (excerpt):
表面の異常を検出するための方法において、 グレージング角で前記表面の方向に光の焦点ビームを向けるステップと; ビームと表面との間に相対運動を惹起させることで、ビームが表面全体を実質的にカバーする走査通路を走査し、前記通路は走査通路区分の複数のアレイを含み、ここにおいて、少なくともいくつかの前記走査通路区分の各々は表面の面積よりも短いスパンをもつ、相対運動を惹起させるステップと;および 前記通路に沿って異常を検出するために散乱された光を収集するステップとを含む表面の異常を検出するための方法。
IPC (2):
G01N 21/88 ,  H01L 21/66
FI (2):
G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 J
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • 特開平4-122042
  • 特開平4-122042
  • 表面検査装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-139004   Applicant:株式会社東芝
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