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J-GLOBAL ID：200903061406541198

基板処理装置

Inventor： 杉本 憲司
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996104728
Publication number (International publication number)：1997275127
Application date： Apr. 01, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 装置の設置面積を小さくしてクリーンルームの有効利用を図ることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理部3〜6や、装置1内で基板Wを搬送するとともに、基板処理部3〜6に対する基板の搬入出などを行う基板搬送装置10などを備えた基板処理装置1において、基板処理部3〜6を配置する処理エリア13と、基板搬送装置10が基板Wを搬送する搬送エリア12とを上下に積層した。

Claim (excerpt)：

基板処理部と、装置内で基板を搬送するとともに、前記基板処理部に対する基板の搬入出を行う基板搬送手段と、を備えた基板処理装置において、前記基板処理部を配置する処理エリアと、前記基板搬送手段が基板を搬送する搬送エリアとを上下に積層したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/02

FI (2)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/02 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-169546   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平4-199731