還元水製造装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：清原義博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000239456
Publication number (International publication number)：2002045861
Application date： Aug. 08, 2000
Publication date： Feb. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】工業用水や水道水或いは自然水等からだけでなく純水を原料としても負の酸化還元電位を長時間にわたって維持できる還元水を速やかに且つ安価に製造することが可能な、還元水の工業的量産に適した還元水製造装置を提供すること。【解決手段】水槽と、該水槽内に配設される少なくとも1つの電極板ユニットと、該電極板ユニットを構成する電極板に高周波交流電圧を印加する電圧印加手段とからなる還元水製造装置であって、前記電極板ユニットは電圧印加手段によって印加される交流電圧が互いに逆位相の変調波となるように変化する2枚の交流電極板と、該2枚の交流電極板に対向配置されたグランド電極板とを備えてなるとともに、これらの電極板の表面はチタン及び白金からなることを特徴とする還元水製造装置。

Claim (excerpt)：

水槽と、該水槽内に配設される少なくとも1つの電極板ユニットと、該電極板ユニットを構成する電極板に高周波交流電圧を印加する電圧印加手段とからなる還元水製造装置であって、前記電極板ユニットは電圧印加手段によって印加される交流電圧が互いに逆位相の変調波となるように変化する2枚の交流電極板と、該2枚の交流電極板に対向配置されたグランド電極板とを備えてなるとともに、これらの電極板の表面はチタン及び白金からなることを特徴とする還元水製造装置。

IPC (2)：

C02F 1/46 , C02F 5/00 610

FI (2)：

C02F 1/46 Z , C02F 5/00 610 B

F-Term (12)：

4D061DA03 , 4D061DB05 , 4D061DB09 , 4D061EA02 , 4D061EB01 , 4D061EB09 , 4D061EB18 , 4D061EB30 , 4D061EB33 , 4D061EB35 , 4D061EB39 , 4D061GC11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

洗顔水の生成方法及び洗顔水の生成装置及び洗顔水
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-229942 Applicant：松下電工株式会社
強酸化水及び強還元水の調製法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-259779 Applicant：早川英雄
水の改質方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-063248 Applicant：早川英雄

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Cited by examiner (7)

洗顔水の生成方法及び洗顔水の生成装置及び洗顔水
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-229942 Applicant：松下電工株式会社
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