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J-GLOBAL ID：200903061530818882

フィルターユニット及びフィルター

Inventor： 住谷 龍明 ,  高橋 智三 ,  家野 正雄 ,  斉藤 義貴
Applicant, Patent owner： 東洋紡績株式会社 ,  大成技研株式会社
Agent (1)： 高島 一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999336691
Publication number (International publication number)：2001149723
Application date： Nov. 26, 1999
Publication date： Jun. 05, 2001
Summary：

【要約】【課題】 半導体製造プロセスなどにおいて排出される排気ガス中の反応生成物等の夾雑物、その他ミストやダストを含めた微粒子を長期間除去できるようにすることで、それ自体及びこれに後続する除害設備の負荷を軽減させるフィルターユニットを提供する。【解決手段】 被処理ガスがフィルターユニット内を1回転以上渦巻状に進行する流路5-1,5-2を形成するようにガス不透過性の隔壁2-1,2-2,2-3が設けられている。流路5-1,5-2を形成する隔壁2-1,2-2,2-3の少なくとも片側の面に、フィルター部材3-1,3-2,3-3が流路5-1,5-2を閉塞しないように積層されている。【効果】 このフィルターユニットを半導体製造プロセスなどの排気ガスのラインに組み込むことで除害設備の負荷が軽減でき、掃除回数や設備寿命を大幅に改善できると共に、排気ガスの種類によっては除害設備そのものを省略することも可能となる。

Claim (excerpt)：

被処理ガス中の微粒子を除去するフィルターユニットであって、該被処理ガスが該フィルターユニット内を1回転以上渦巻状に進行する流路を形成するようにガス不透過性の隔壁が設けられ、該流路を形成する隔壁の少なくとも片側の面にフィルター部材が該流路を閉塞しないように積層されたフィルターユニット。

F-Term (9)：

4D031AC02 ,  4D031AC03 ,  4D031AC04 ,  4D031BA01 ,  4D031BA03 ,  4D031BA10 ,  4D031BB04 ,  4D031DA01 ,  4D031DA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 回収装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-120777   Applicant：ソニー株式会社
• オイルミスト回収装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-052926   Applicant：蟹真夫