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J-GLOBAL ID:200903061540905473
感光材料組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
秋元 輝雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992343296
Publication number (International publication number):1994167812
Application date: Nov. 30, 1992
Publication date: Jun. 14, 1994
Summary:
【要約】【目的】 紫外線や遠紫外線、X線、電子線等を光源とする半導体素子製造用フォトリソグラフィーのレジストとして好適な感光材料組成物であって高解像度化と高感度化の要求を満足する新しいレジストを提供する。【構成】 フラーレンと感光剤とから成る感光材料組成物により上記目的を達成できる。
Claim (excerpt):
フラーレンと感光剤とから成る感光材料組成物。
IPC (5):
G03F 7/038 505
, C01B 31/00
, G03F 7/004 501
, G03F 7/008
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
-
感光材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-196572
Applicant:日本石油株式会社
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