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J-GLOBAL ID：200903061565740312

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor： 岩下 淳 ,  日下 綾子
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006107450
Publication number (International publication number)：2007279493
Application date： Apr. 10, 2006
Publication date： Oct. 25, 2007
Summary：

【課題】矩形性が高いレジストパターンが得られるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および架橋剤成分(C)を含有するネガ型レジスト組成物であって、さらに、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分(F)を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および架橋剤成分(C)を含有するネガ型レジスト組成物であって、 さらに、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分(F)を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/038 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/004

FI (3)：

G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/004 503Z

F-Term (11)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB52 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特公平8-3635号公報
  
• ネガ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-037847   Applicant：東京応化工業株式会社