圧電体薄膜素子及びその製造方法、並びにこれを用いたインクジェット式記録ヘッド

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996077668
Publication number (International publication number)：1997298324
Application date： Mar. 29, 1996
Publication date： Nov. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】水熱合成法による厚膜化が容易で、高い電圧ひずみ定数を持ち、微細なパターニングを行うことが可能な圧電体薄膜素子及びその製造方法、並びにこの圧電体薄膜素子を用いたインクジェット式記録ヘッドを提供する。【解決手段】水熱合成法による圧電体薄膜の製造において、圧電体薄膜種結晶をゾルゲル法またはスパッタ法により形成し、前記圧電体薄膜種結晶の結晶粒径を0.05μm以上1μm以下とする。また、圧電体薄膜種結晶をゾルゲル法により形成する場合には、その結晶構造が(100)面に配向させ、スパッタ法により形成する場合には、(111)面に配向させる。

Claim (excerpt)：

基板上に形成され、かつ圧電体薄膜を備えてなる圧電体薄膜素子において、前記圧電体薄膜は、次の特性を有することを特徴とする圧電体薄膜素子。厚さが1μm以上10μm以下結晶粒径が0.05μm以上1μm以下表面粗さがRmaxで1μm以下

IPC (5)：

H01L 41/09 , B41J 2/16 , B41J 2/045 , B41J 2/055 , H01L 41/22

FI (4)：

H01L 41/08 C , B41J 3/04 103 H , B41J 3/04 103 A , H01L 41/22 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

誘電体結晶膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-033890 Applicant：宇部興産株式会社

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