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J-GLOBAL ID:200903061686207077

生体組織の処置用のプラズマアークを発生する高周波装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中島 淳 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000567145
Publication number (International publication number):2002523173
Application date: Sep. 01, 1999
Publication date: Jul. 30, 2002
Summary:
【要約】内部抵抗(8)を有する高周波発生器(3)を有し、該高周波発生器(3)には可撓性リード(10)によって電極(4)が接続され、該電極(4)を用いて、前記高周波発生器(3)に同様に電気的に接続された生体組織(1)と前記電極(4)との間のプラズマセグメント(6)にプラズマアーク(5)を生成する、特に医療における前記生体組織(1)の処置用の前記プラズマアーク(5)を発生する高周波装置において、前記高周波発生器(3)には高周波電圧電源(7)が設けられ、該高周波電圧電源(7)には、直列に配列された容量性の作用を有する第1リアクタンス素子(9a)及び誘導性の作用を有する第2リアクタンス素子(9b)から成る共振回路(2)が接続され、該共振回路(2)は、前記高周波電圧電源(7)によって発せられる高周波振動の周波数の共振周波数を有し、前記プラズマアーク(5)を発生するための電圧は、前記第1又は第2リアクタンス素子(9a、9b)から取り出されるような、高周波装置である。
Claim (excerpt):
内部抵抗(8)を有する高周波発生器(3)を有し、該高周波発生器(3)には可撓性リード(10)によって電極(4)が接続され、該電極(4)を用いて、前記高周波発生器(3)に同様に電気的に接続された生体組織(1)と前記電極(4)との間のプラズマセグメント(6)にプラズマアーク(5)を生成する、特に医療における前記生体組織(1)の処置用の前記プラズマアーク(5)を発生する高周波装置において、 前記高周波発生器(3)には高周波電圧電源(7)が設けられ、 該高周波電圧電源(7)には、直列に配列された容量性の作用を有する第1リアクタンス素子(9a)及び誘導性の作用を有する第2リアクタンス素子(9b)から成る共振回路(2)が接続され、 該共振回路(2)は、前記高周波電圧電源(7)によって発せられる高周波振動の周波数の共振周波数を有し、 前記プラズマアーク(5)を発生するための電圧は、前記第1又は第2リアクタンス素子(9a、9b)から取り出される ことを特徴とする、プラズマアーク(5)を発生する高周波装置。
F-Term (1):
4C060KK50
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 高周波焼灼電源装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-278336   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • アークを用いる電気外科装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-264648   Applicant:バーッチヤーメディカルシステムズ,インコーポレイテッド

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