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J-GLOBAL ID：200903061826127397

スパッタリングターゲット

Inventor： 黒澤 聡 ,  内海 健太郎 ,  高畑 努
Applicant, Patent owner： 東ソー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998212568
Publication number (International publication number)：2000045065
Application date： Jul. 28, 1998
Publication date： Feb. 15, 2000
Summary：

【要約】【課題】 既存のスパッタリング条件を大幅に変更することなく、成膜速度を向上させることができるスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 スパッタリングターゲットのスパッタ面のX線回折パターンと前記スパッタ面にほぼ直交する側面のX線回折パターンが実質的に同じであり、かつ、相対密度が95%以上であるターゲット材によりスパッタリングターゲットを構成する。

Claim (excerpt)：

スパッタリングターゲットのスパッタ面のX線回折パターンと前記スパッタ面にほぼ直交する側面のX線回折パターンが実質的に同じであり、かつ、相対密度が95%以上であることを特徴とするスパッタリングターゲット。

F-Term (8)：

4K029BA01 ,  4K029BA07 ,  4K029BA11 ,  4K029BD01 ,  4K029BD11 ,  4K029DC03 ,  4K029DC09 ,  4K029EA00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• Cr-Ti系ターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-120325   Applicant：日立金属株式会社
• 特開昭63-162863
  
• Mo系ターゲット材およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-210573   Applicant：日立金属株式会社