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J-GLOBAL ID:200903061862880310
排ガス浄化用触媒
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001271637
Publication number (International publication number):2002166172
Application date: Sep. 07, 2001
Publication date: Jun. 11, 2002
Summary:
【要約】【課題】低温域におけるメタンの浄化活性をさらに向上させる。【解決手段】担体基材1と、担体基材1の表面に形成されたメタン浄化触媒層2と、メタン浄化触媒層2の表面に形成された疎水性コート層3と、から構成した。排ガス中の H2Oは疎水性コート層3によってブロックされ、メタン浄化触媒層2に近接するのが抑制されるため、 H2Oによる被毒が抑制される。
Claim (excerpt):
担体基材と、該担体基材の表面に形成されたメタン浄化触媒層と、該メタン浄化触媒層の表面に形成された疎水性コート層と、よりなることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (6):
B01J 33/00
, B01D 53/86 ZAB
, B01D 53/94
, B01J 29/035
, C01B 37/02
, F01N 3/10
FI (6):
B01J 33/00 F
, B01J 29/035 A
, C01B 37/02
, F01N 3/10 A
, B01D 53/36 104 Z
, B01D 53/36 ZAB
F-Term (45):
3G091AB02
, 3G091BA15
, 3G091GB07W
, 3G091GB17X
, 4D048AA18
, 4D048BA03X
, 4D048BA11X
, 4D048BA31X
, 4D048BA41X
, 4D048BC07
, 4D048CC36
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA01A
, 4G069BA01B
, 4G069BA07A
, 4G069BB06B
, 4G069BC43B
, 4G069BC51B
, 4G069BC71B
, 4G069BC72A
, 4G069BC72B
, 4G069CA03
, 4G069CA15
, 4G069DA06
, 4G069EA19
, 4G069EB15X
, 4G069EC22Y
, 4G069ED01
, 4G069EE01
, 4G069EE06
, 4G069FA01
, 4G069FA02
, 4G069FA03
, 4G069FB14
, 4G069FB20
, 4G069FB23
, 4G069ZA36A
, 4G069ZA36B
, 4G073BB58
, 4G073BD18
, 4G073CZ13
, 4G073CZ54
, 4G073FB42
, 4G073UA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
メタンを含有する燃焼排ガスの浄化用触媒および浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-132050
Applicant:大阪瓦斯株式会社
-
排ガス中の未燃炭化水素用酸化触媒及びその除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-167955
Applicant:東京瓦斯株式会社
-
内燃機関の排ガス浄化触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-030043
Applicant:株式会社日立製作所
-
排気ガス浄化用触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-098289
Applicant:本田技研工業株式会社
-
ゼオライト結晶体の合成膜およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-059179
Applicant:日本碍子株式会社
-
MFI型ゼオライト膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-210401
Applicant:株式会社荏原製作所
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