垂直インピーダンスセンサ構造および垂直インピーダンスセンサ構造の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：原謙三 , 木島隆一 , 金子一郎
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003576947
Publication number (International publication number)：2005527799
Application date： Mar. 14, 2003
Publication date： Sep. 15, 2005
Summary：

本発明は、垂直インピーダンスセンサ構造および垂直インピーダンスセンサ構造の製造方法に関するものである。垂直インピーダンスセンサ構造は、基板と第1の導電構造とを備えている。第1の導電構造は、第1の露出表面を備え、基板中および/または基板上に配置されている。間隔保持部は、基板上方および/または第1の導電構造上の少なくとも一部に配置されている。垂直インピーダンスセンサ構造は、第2の導電構造をさらに備えている。この第2の導電構造は第2の露出面を備え、間隔保持部上に配置されている。第1および第2の露出面領域には、認識される粒子とハイブリダイゼーションできるように構成された捕獲分子が固定されている。

Claim (excerpt)：

基板と、第1の露出表面を有し、上記基板中および/または上記基板上に配置されている第1の導電構造と、上記基板上方、および/または、上記第1の導電構造の少なくとも一部上に、配置されている間隔保持部と、上記間隔保持部上に配置されており、第2の露出表面を有する第2の導電構造と、上記第1および第2の露出表面上に固定され、認識される粒子とハイブリダイゼーションできるように構成されている捕獲分子と、を備えている、垂直インピーダンスセンサ構造。

IPC (1)：

G01N27/02

FI (2)：

G01N27/02 D , C12N15/00 A

F-Term (8)：

2G060AA15 , 2G060AF06 , 2G060AG06 , 2G060AG11 , 2G060KA09 , 4B024AA11 , 4B024CA09 , 4B024HA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特表平7-508831
能動プログラマブル・マトリックスデバイス用の装置および方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平9-513452 Applicant：ナノゲン・インコーポレイテッド
インピーダンス式検出システム及びその製造方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平9-520961 Applicant：イノジェネティックス・ナムローゼ・フェンノートシャップ, アンテルユニヴェルシテール・ミクロ-エレクトロニカ・サントリュム・ヴェー・ゼッド・ドゥブルヴェ

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