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J-GLOBAL ID:200903061930648706

位相差層積層体およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 松山 圭佑 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002259150
Publication number (International publication number):2003207641
Application date: Sep. 04, 2002
Publication date: Jul. 25, 2003
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、位相差層内の分子の配向方向の自由度が極めて高く、かつ製造が容易な位相差層積層体を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、配向能を有する基材と、上記基材上に、ネマチック相を形成し得る液晶材料が屈折率異方性を有するようにパターン状に形成された位相差層とを有することを特徴とする位相差層積層体を提供する。
Claim (excerpt):
配向能を有する基材と、前記基材上に、ネマチック相を形成し得る液晶材料が屈折率異方性を有するようにパターン状に形成された位相差層と、を有してなることを特徴とする位相差層積層体。
IPC (3):
G02B 5/30 ,  G02F 1/13363 ,  G02F 1/1337 505
FI (3):
G02B 5/30 ,  G02F 1/13363 ,  G02F 1/1337 505
F-Term (21):
2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BC03 ,  2H049BC22 ,  2H090KA05 ,  2H090KA07 ,  2H090KA08 ,  2H090LA06 ,  2H090MA15 ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB04 ,  2H091FC01 ,  2H091FD06 ,  2H091GA06 ,  2H091HA07 ,  2H091HA09 ,  2H091HA10 ,  2H091LA16 ,  2H091LA19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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