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J-GLOBAL ID：200903061998005811

新規なネガ型レジスト材料及びパタ-ン形成方法

Inventor： 谷 美幸 ,  遠藤 政孝 ,  浦野 文良 ,  安田 高訓
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社 ,  和光純薬工業株式会社
Agent (1)： 平井 順二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993191999
Publication number (International publication number)：1994083055
Application date： Jul. 06, 1993
Publication date： Mar. 25, 1994
Summary：

【要約】【構成】アルカリ可溶性樹脂と、下記一般式[I]【化1】で示される化合物と、露光により酸を発生する感光性化合物及びこれらを溶解可能な溶剤を含んでなる成るネガ型レジスト材料、及びこれを用いたネガ型のパターン形成方法。【効果】本発明のレジスト材料を300nm以下の光源、例えば遠紫外光(Deep UV)、例えばKrFエキシマレーザ光(248.4nm)等の露光用レジスト材料として用いた場合には、極めて高い解像性能を有し、且つ露光から加熱処理までの時間経過に対して安定したパターン寸法の維持が可能な、実用的なクォーターミクロンオーダーの形状の良い微細なパターンが容易に得られる。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂と、下記一般式[I]【化1】[式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基又はアラルキル基を表し、R2は水素原子、水酸基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数1〜10のアルキル基又はOCH2OR1(但し、R1は前記と同じ。)を表す。]で示される化合物と、露光により酸を発生する感光性化合物及びこれらを溶解可能な溶剤を含んで成ることを特徴とするネガ型レジスト材料。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ネガ型感光性組成物およびこれを用いたパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-236532   Applicant：三菱化成株式会社
• ネガ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-326748   Applicant：日本合成ゴム株式会社