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J-GLOBAL ID：200903062048204334

電子線直描方法

Inventor： 山田 泰久
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 菅野 中
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999357784
Publication number (International publication number)：2001176778
Application date： Dec. 16, 1999
Publication date： Jun. 29, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ウェハ面内でのレジストパターンの寸法ばらつきを防止する電子線直描方法を提供する。【解決手段】 化学増幅型レジストを用いてウェハ4上にレジストパターンを描画形成するものであり、ウェハ4上に塗布された化学増幅レジストに電子線6でパターンを描画した後、ウェハ4を大気から隔離した状態を維持したまま前記描画済み領域内の温度勾配を均一にして、前記描画済み領域に熱線照射する。

Claim (excerpt)：

基板に塗布された化学増幅レジストに電子線でパターンを描画した後、前記基板を大気から隔離した状態を維持したまま前記描画済み領域内の温度勾配を均一にして、前記描画済み領域に熱線照射することを特徴とする電子線直描方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/38 511

FI (4)：

G03F 7/20 504 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/30 541 Z ,  H01L 21/30 568

F-Term (12)：

2H096AA25 ,  2H096GB02 ,  2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097HB03 ,  2H097LA10 ,  5F046JA24 ,  5F046KA02 ,  5F056CB03 ,  5F056CC16 ,  5F056DA15 ,  5F056DA26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• パターン描画装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-299506   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭58-140122
  
• 特開昭57-052052