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J-GLOBAL ID：200903062093691904

ガスバリア性フィルムの製造方法

Inventor： 別所 正博
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 萩原 亮一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998059464
Publication number (International publication number)：1999256338
Application date： Mar. 11, 1998
Publication date： Sep. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ガスバリア性に優れ、透明性も高く、さらに安定した品質のガスバリア性フィルムを、大気圧下のプロセスで操作性よく容易に製造することができるガスバリア性フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】 高分子フィルム上に、20〜150°Cの温度域において液体である有機珪素化合物を原料として、600〜1520Torrの圧力下で発生するプラズマを用いたCVD法により、SiOx(x=1.0〜2.0)で表される酸化珪素を主成分とする薄膜を形成させることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。

Claim (excerpt)：

高分子フィルム上に、20〜150°Cの温度域において液体である有機珪素化合物を原料として、600〜1520Torrの圧力下で発生するプラズマを用いたCVD法により、SiOx(x=1.0〜2.0)で表される酸化珪素を主成分とする薄膜を形成させることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• シリカ薄膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-339522   Applicant：信越化学工業株式会社
• 特開平3-072077
  
• 大気圧プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-049791   Applicant：株式会社リコー