ホウ化物含有ターゲット材

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007013488
Publication number (International publication number)：2008179853
Application date： Jan. 24, 2007
Publication date： Aug. 07, 2008
Summary：

【課題】本願発明が解決しようとする課題は、アークイオンプレーティング法、マグネトロンスパッタ法に用いるターゲット材であって、ドロップレットの生成が抑制され、品質の高い皮膜を形成するのために好適なターゲット材を提供することである。【解決手段】本願発明は、Al元素及び/またはSi元素と、M成分、但し、M成分は周期律表4a、5a、6a族金属元素、Si、Sから選択される1種以上の元素を有するターゲット材において、該ターゲット材は、M成分のホウ化物を、モル%で5%以上、30%以下含有し、該Mホウ化物が、Al相及び又はSi相中に含まれる組織を有することを特徴とするホウ化物含有ターゲット材である。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

Al元素と、M成分、但し、M成分は周期律表4a、5a、6a族金属元素、Si、Sから選択される1種以上の元素を有するターゲット材において、該ターゲット材は、M成分のホウ化物を、モル%で5%以上、30%以下含有し、該Mホウ化物が、Al相中に含まれる組織を有することを特徴とするホウ化物含有ターゲット材。

IPC (1)：

C23C 14/34

FI (1)：

C23C14/34 A

F-Term (14)：

4K029AA02 , 4K029BA53 , 4K029BA58 , 4K029BC02 , 4K029BD05 , 4K029CA04 , 4K029CA06 , 4K029CA13 , 4K029DA08 , 4K029DC04 , 4K029DC05 , 4K029DC09 , 4K029DC39 , 4K029DD06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

ホウ素/炭素/窒素/酸素/ケイ素でドープ処理したスパッタリングターゲットの製造方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-523049 Applicant：ヘラエウスインコーポレーテッド
切削工具用硬質皮膜およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-167962 Applicant：株式会社神戸製鋼所
スパッタリングターゲットおよびそれを用いて形成した高硬度被膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-047898 Applicant：株式会社東芝

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Cited by examiner (3)

耐摩耗性に優れた硬質皮膜、硬質皮膜被覆工具及び硬質皮膜被覆部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-100153 Applicant：株式会社神戸製鋼所
Cr合金ターゲット材およびその製造方法ならびに皮膜コーティング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-346804 Applicant：日立金属株式会社
硬質皮膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-171022 Applicant：日立ツール株式会社

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