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J-GLOBAL ID：200903062365301043

走査電子線干渉装置

Inventor：
松元 隆夫

About 松元 隆夫


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (2)： 作田 康夫 ,  井上 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004108643
Publication number (International publication number)：2005294085
Application date： Apr. 01, 2004
Publication date： Oct. 20, 2005
Summary：
【課題】感度の高い電子線干渉計測法を提供する。【解決手段】楕円状または線状のビームで試料を照射し、試料を該楕円の短軸方向または線と直行する方向に走査しながら検出器により干渉縞を逐次記録する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
電子線バイプリズムをその構成要素とすることを特徴とする電子線干渉計測装置において、制御装置と連動した非点補正装置と収束レンズによって2よりも大きい比率を有する楕円状あるいは線状のビームとして試料及びその近傍の真空を照射し、該試料あるいは該ビームを該楕円の短軸方向或いは該線と直交する方向に移動あるいは走査しながら、試料を透過した電子線と真空を透過した電子線を電子線バイプリズムによって重ね合わせることにより形成される干渉縞を検出器により逐次計測することを特徴とする電子線干渉計測装置。
IPC (2)：
H01J37/295 ,  G01N23/02
FI (2)：
H01J37/295 ,  G01N23/02
F-Term (10)：
2G001AA03 ,  2G001BA11 ,  2G001CA03 ,  2G001GA06 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001JA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 特開昭64-65762号公報
  • 特開平4-206132号公報
Cited by examiner (3)

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