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J-GLOBAL ID：200903062408143048

SiO2を主成分とする酸化物皮膜およびその製造方法

Inventor： 西森 秀樹 ,  宗宮 和久 ,  橋本 明 ,  多田 清志
Applicant, Patent owner： 昭和アルミニウム株式会社
Agent (1)： 岸本 瑛之助 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997008344
Publication number (International publication number)：1998203819
Application date： Jan. 21, 1997
Publication date： Aug. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】 緻密な皮膜と凹凸を有する皮膜との長所を合わせ持った酸化物皮膜を提供する。【解決手段】 SiO2 を主成分とするとともに、ゾル-ゲル法により形成された酸化物皮膜1である。緻密層2上に凹凸層3を一体に形成する。凹凸層3の表面全体に微細な凹凸を形成して粗面化する。

Claim (excerpt)：

SiO2 を主成分とするとともに、ゾル-ゲル法により形成されており、緻密層上に凹凸層が一体に形成され、凹凸層の表面全体に微細な凹凸が形成されて粗面化されている酸化物皮膜。

IPC (2)：

C01B 33/12 ,  F28F 3/00

FI (2)：

C01B 33/12 C ,  F28F 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-302340
  
• セリア含有高温UV吸収性被覆を有するガラス又は石英物品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-325377   Applicant：ピーピージーインダストリーズインコーポレイテッド
• 低屈折率反射防止膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-255007   Applicant：日産化学工業株式会社
• 帯電防止・反射防止膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-056159   Applicant：住友大阪セメント株式会社