基板処理装置のフロー管理方法及びフロー管理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小谷悦司 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997066861
Publication number (International publication number)：1997312323
Application date： Mar. 19, 1997
Publication date： Dec. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】基板搬送に関するフロー情報を、基本搬送手順に対して不使用予定の処理部をオプション情報として付加乃至は混在させた形式で形成し、これを選択指定するようにしてフローの指定の容易化及び搬送手段による基板搬送効率の向上を図る。【解決手段】レシピNoによりレシピテーブルからMTRフローが特定され、これからフローNoと不使用の処理部を指定するオプションNoとが特定され、フローテーブルから不使用の処理部のステップ位置が特定される。MTR31〜33への基板の受け渡しとともにレシピNoが転送されてくると、処理制御手段8は特定されるオプションNoから不使用となる処理部のステップ位置が、次処理の処理部であるかどうかを判断する。MTRは、次処理の処理部が不使用でないときは該次処理の処理部に基板Bを搬送して受け渡しを行い、該次処理の処理部が不使用となるときは該次処理の処理部を通過する。

Claim (excerpt)：

カセットに収納された基板を順次取り出し、この基板を複数の処理部のそれぞれとの間で受け渡しを行いながら移動させる搬送手段と、不使用予定の処理部をオプション情報として含む2種類以上の基板搬送手順を記憶する記憶手段と、各基板に対し上記基板搬送手順を指定する指定手段とを備えた基板処理装置のフロー管理方法であって、上記搬送手段が現処理部から基板を取り出すときに、上記指定手段で指定された上記基板搬送手順による次処理の処理部が上記オプション情報に従って不使用となる処理部かどうかを判断するステップと、該次処理の処理部が不使用でないときは該次処理の処理部に基板を搬送して受け渡しを行い、該次処理の処理部が不使用となるときは上記搬送手段に対し該次処理の処理部を通過させるステップとを有することを特徴とする基板処理装置のフロー管理方法。

IPC (4)：

H01L 21/68 , G02F 1/13 101 , G07C 3/08 , H01L 21/02

FI (4)：

H01L 21/68 A , G02F 1/13 101 , G07C 3/08 , H01L 21/02 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

半導体基板処理システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-158306 Applicant：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-071036 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

Cited by examiner (2)

半導体基板処理システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-158306 Applicant：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-071036 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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