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J-GLOBAL ID：200903062656427540

感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物、硬化性組成物およびその硬化物

Inventor：
鳥羽 泰正

About 鳥羽 泰正

, 
田中 康裕

About 田中 康裕

, 
安池 円

About 安池 円


Applicant, Patent owner：
東洋インキ製造株式会社

About 東洋インキ製造株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996012431
Publication number (International publication number)：1997202873
Application date： Jan. 29, 1996
Publication date： Aug. 05, 1997
Summary：
【要約】【課題】毒性、臭気、溶解性およびエネルギー線感受性のいずれにおいても優れた特性を有する酸発生剤を提供する。【解決手段】カチオン部分が一般式(1)で表されるホスホニウムカチオンと、アニオン部分が一般式(2)で表されるボレートアニオンとから構成されるホスホニウムボレート錯体、該ホスホニウムボレート錯体と増感剤とからなる感エネルギー線酸発生剤組成物および、これらに酸硬化性化合物を混合して得られる硬化性組成物および該硬化性組成物にラジカル重合性化合物とラジカル発生剤をさらに混合してなる硬化性組成物およびそれらの硬化物。一般式(1)【化1】(ただし、R1 は、ベンジル基、フェナシル基、アリル基、アルコキシル基、アリールオキシ基から選ばれる基を表し、R2 は、それぞれ独立に、R1 を構成できる基と同じ基か、アルキル基、アリール基から選ばれる基を表す。)一般式(2)[BYm Zn ]-(ただし、Yは電子吸引性基で置換されたフェニル基、mは0〜3の整数、nは1〜4の整数を表し、m+n=4である。)
Claim (excerpt)：
カチオン部分が一般式(1)で表されるホスホニウムカチオンと、アニオン部分が一般式(2)で表されるボレートアニオンとから構成されるホスホニウムボレート錯体であることを特徴とする感エネルギー線酸発生剤(A)。一般式(1)【化1】(ただし、R1 は、ベンジル基、置換されたベンジル基、フェナシル基、置換されたフェナシル基、アリル基、置換されたアリル基、アルコキシル基、置換されたアルコキシル基、アリールオキシ基、置換されたアリールオキシ基から選ばれる基を表し、R2 は、それぞれ独立に、R1 を構成できる基と同じ基か、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC6 〜C18の単環、縮合多環アリール基から選ばれる基を表し、R1 とR2 が相互に結合した環状構造であってもよい。)一般式(2)[BYm Zn ]-(ただし、Yはフッ素または塩素、Zは少なくとも2つ以上のフッ素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選ばれる電子吸引性基で置換されたフェニル基、mは0〜3の整数、nは1〜4の整数を表し、m+n=4である。)
IPC (9)：
C09K 3/00 ,  C08F 2/50 MDN ,  C08F 4/00 MEF ,  C08G 59/72 NKR ,  C08G 63/08 NLY ,  C08G 65/10 NQE ,  C08G 69/16 NRT ,  C08G 73/00 NTM ,  C08G 77/08 NUD
FI (9)：
C09K 3/00 Z ,  C08F 2/50 MDN ,  C08F 4/00 MEF ,  C08G 59/72 NKR ,  C08G 63/08 NLY ,  C08G 65/10 NQE ,  C08G 69/16 NRT ,  C08G 73/00 NTM ,  C08G 77/08 NUD
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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