投影露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995120950
Publication number (International publication number)：1996316123
Application date： May. 19, 1995
Publication date： Nov. 29, 1996
Summary：

【要約】【目的】レチクルパターンの描画誤差や投影光学系のディストーションを高精度で補正する。【構成】光源系22、リレーレンズ16,18、レチクルブラインド17、及びコンデンサーレンズ14等からなる照明光学系とレチクルステージ等を一体化した照明機構13を照明機構駆動装置30により走査方向(X方向)に駆動可能とする。リレーレンズ16,18及びコンデンサーレンズ14を光軸AX方向に駆動し且つ偏心させる光学部材駆動装置28と照明機構駆動装置30とを駆動して露光用の照明光のテレセントリック性を変化させると共に、ウエハ2をフォーカス方向及びチルト方向に駆動してウエハ2上の投影像を横方向にシフトさせて、レチクルパターンの描画誤差及び投影光学系4のディストーションを補正する。

Claim (excerpt)：

マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板上に投影する投影露光装置において、転写対象とするマスクのパターン情報を入力する入力手段と、該入力手段により入力されたパターン情報に応じて前記投影光学系による空間像の位置を部分的に補正する空間像補正手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 516 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 518

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-100621 Applicant：株式会社ニコン

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