リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、及びそれにより製造されたデバイス

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：浅村皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001262626
Publication number (International publication number)：2002124464
Application date： Aug. 31, 2001
Publication date： Apr. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】光学構成要素の汚染が抑制され、それにより従来使用されているシステムの問題に対処するリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】リソグラフィ投影装置は、放射の投影ビームを供給するための放射システムと、マスクを保持するためのマスク・テーブルと、基板を保持するための基板テーブルと、マスクの照射部分を基板のターゲット部分にイメージするための投影システムとを備える。放射システムと投影システムの一方又は両方が、0.1Pa〜10Paの圧力で不活性ガスを供給されて、例えば炭化水素分子によるシステム内の任意の光学構成要素の汚染を抑制する。

Claim (excerpt)：

放射の投影ビームを供給するための放射システムと、パターニング手段を支持するための支持構造であって、所望のパターンに従って投影ビームをパターニングする働きをする支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、前記パターニングされたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置において、前記放射システムの少なくとも一部を収容する空間及び/又は前記投影システムの少なくとも一部を収容する空間が、0.1Pa〜10Paの圧力で不活性ガスを含むことを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/22

FI (4)：

G03F 7/20 503 , G03F 7/22 H , H01L 21/30 516 F , H01L 21/30 531 A

F-Term (15)：

2H097AA02 , 2H097AA03 , 2H097AB09 , 2H097BA02 , 2H097CA15 , 2H097GB01 , 2H097LA10 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046DA04 , 5F046DA27 , 5F046GA03 , 5F046GA07 , 5F046GA14 , 5F046GC03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

圧力隔壁およびこれを用いたX線露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-058422 Applicant：キヤノン株式会社

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