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J-GLOBAL ID：200903062888984330

露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Inventor：
蛭川 茂

About 蛭川 茂


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004156545
Publication number (International publication number)：2005012201
Application date： May. 26, 2004
Publication date： Jan. 13, 2005
Summary：
【課題】 投影光学系と基板との間の液体を介して基板を液浸露光処理する場合においても、精度良くパターン転写できる露光方法を提供する。【解決手段】 投影光学系の投影領域を含む基板上の少なくとも一部に液浸領域を形成し、投影光学系と基板との間の液体及び投影光学系を介してマスクのパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する際、投影光学系と基板との間の液体に入射する露光光ELの分布に応じて、基板上に所望のパターン像が投影されるように調整を行う。【選択図】 図4
Claim (excerpt)：
マスクのパターンの像を、投影光学系と基板の間の液体を介して基板上に投影することによって基板を露光する露光方法であって、 前記液体に入射する露光光の分布に応じてパターン像の投影状態を調整することと; 前記調整された投影状態で基板を露光することを含む露光方法。
IPC (2)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (4)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516A ,  H01L21/30 516E
F-Term (15)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB26 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DA05 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DA26 ,  5F046DB01 ,  5F046DB02 ,  5F046DB05 ,  5F046DC12 ,  5F046DD06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
Cited by examiner (4)
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