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J-GLOBAL ID：200903084271913626

露光装置、露光装置の製造方法、およびマイクロデバイスの製造方法

Inventor：
畑田 仁志

About 畑田 仁志

, 
加藤 正紀

About 加藤 正紀


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 山口 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000157038
Publication number (International publication number)：2001337463
Application date： May. 26, 2000
Publication date： Dec. 07, 2001
Summary：
【要約】【課題】 たとえばレンズの熱変形に起因して各投影光学モジュールの像面の位置が変動しても良好な重複露光を行う。【解決手段】 複数の投影光学モジュールを有する投影光学系を用いてマスクのパターン像を感光性基板へ投影露光する。感光性基板に対して各投影光学モジュールの像面(Ia〜Ie)を合焦方向へそれぞれ整合させる合焦調整手段を配置している。合焦調整手段は、互いに隣合った投影光学モジュールの像面における一部重複露光領域の形成に寄与する部分同士を、合焦方向においてほぼ同じ位置に設定する。
Claim (excerpt)：
一部重複露光領域を感光性基板上に形成するために所定方向に沿って配列された複数の投影光学モジュールを有する投影光学系と、所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系とを備え、前記投影光学系を用いて前記マスクのパターン像を前記感光性基板へ投影露光する露光装置において、前記感光性基板に対して前記各投影光学モジュールの像面を合焦方向へそれぞれ整合させる合焦調整手段を配置し、前記合焦調整手段は、互いに隣合った投影光学モジュールの像面における前記一部重複露光領域の形成に寄与する部分同士を前記合焦方向においてほぼ同じ位置に設定すること特徴とする露光装置。
IPC (2)：
G03F 7/207 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F 7/207 Z ,  H01L 21/30 514 C
F-Term (9)：
2H097AA11 ,  2H097BA01 ,  2H097GB00 ,  2H097LA12 ,  5F046AA28 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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