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J-GLOBAL ID:200903062897073057

ガスセンサーおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 宮田 信道
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007133252
Publication number (International publication number):2008286704
Application date: May. 18, 2007
Publication date: Nov. 27, 2008
Summary:
【課題】 常温で動作する金属酸化物半導体ガスセンサーを提供する。【解決手段】 平板状のセンサー基板1と、該センサー基板1上に形成される電極2,2と、該電極2,2上に形成される、酸化テルルナノワイヤーからなる薄膜層3と、を備えるガスセンサーである。酸化テルルナノワイヤーは、金属テルルおよび生成基板を同時に加熱し、生成基板上に成長させる。ナノワイヤーを水またはアルコールに投入して懸濁液を生成し、この懸濁液を、電極を形成したセンサー基板上に滴下して乾燥させることで、酸化テルルナノワイヤーからなる薄膜層を備えるガスセンサーが得られる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
平板状のセンサー基板(1)と、該センサー基板(1)上に形成される電極(2,2)と、該電極(2,2)上に形成される、酸化テルルナノワイヤーからなる薄膜層(3)と、を備えることを特徴とするガスセンサー。
IPC (1):
G01N 27/12
FI (3):
G01N27/12 B ,  G01N27/12 M ,  G01N27/12 C
F-Term (21):
2G046AA05 ,  2G046AA13 ,  2G046AA19 ,  2G046AA21 ,  2G046BA01 ,  2G046BA08 ,  2G046BA09 ,  2G046BB02 ,  2G046BB04 ,  2G046BC03 ,  2G046BC05 ,  2G046BC09 ,  2G046DC13 ,  2G046EA02 ,  2G046EA04 ,  2G046EB01 ,  2G046FB02 ,  2G046FE03 ,  2G046FE31 ,  2G046FE38 ,  2G046FE43
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)

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