重ね合わせ精度測定パターン及び重ね合わせ精度測定方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：野口繁雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997309266
Publication number (International publication number)：1999126746
Application date： Oct. 22, 1997
Publication date： May. 11, 1999
Summary：

【要約】【課題】リソグラフィーでの重ね合わせ精度を正確にかつ再現性よく測定する。【解決手段】測定用下地パターン13は基板上に形成された10μm×10μmの正方形の凹パターンである。測定用上層パターン15は、下地パターン13上にポジ型又はネガ型レジストによって形成された10μm×10μmの正方形の開口パターンであり、下地パターン13に対して45°回転されて配置され、かつその中心点は、下地パターン13の中心点と一致するように形成されている。上層パターン15と重なり合った下地パターン13の辺の長さa,b,c,dの長さを測定し、以下の式により上層パターン15の中心点と下地パターン13の中心点とズレ量を算出する。Xreg=(b-a)/4,Yreg=(d-c)/4

Claim (excerpt)：

基板上に形成される正方形の測定用下地パターンと、前記下地パターンが形成された前記基板上にレジストにて形成される測定用上層パターンからなる重ね合わせ精度測定パターンにおいて、前記上層パターンと前記下地パターンは、形状が同一であり、それぞれの中心の位置が等しく、互いに45°回転した方位に配置されており、一方のパターンと重なり合った他方のパターンの辺の長さが測定されることを特徴とする重ね合わせ精度測定パターン。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G03F 9/00 , H01L 21/66

FI (5)：

H01L 21/30 502 M , G01B 11/00 C , G03F 9/00 H , H01L 21/66 P , H01L 21/30 522 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開昭61-125132
特開昭60-245224
特開昭63-131009

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