レーザ描画装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：奈良武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995052360
Publication number (International publication number)：1996248641
Application date： Mar. 13, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】本発明は、光の回折限界以下の微細パターンを描画することができるレーザ描画装置を提供する。【構成】本発明に係るレーザ描画装置は、レーザ光を発するレーザ光源1と、このレーザ光源1からのレーザ光の波長より小さな開口部を設けた光ファイバー5と、この光ファイバー5の開口部から射出されるレーザ光を被描画材11に対して走査する走査手段とを有するものである。

Claim (excerpt)：

レーザ光を発する光源と、この光源からのレーザ光の波長より小さな開口部を設けた導光手段と、この導光手段の開口部から射出されるレーザ光を被描画材に対して走査する走査手段とを有することを特徴とするレーザ描画装置。

IPC (3)：

G03F 7/20 505 , G02B 27/09 , G11B 7/135

FI (3)：

G03F 7/20 505 , G11B 7/135 Z , G02B 27/00 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

走査型プローブ顕微鏡、メモリー装置及びリソグラフィー装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-239715 Applicant：キヤノン株式会社
特開平4-370536
光記録媒体の記録再生方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-167867 Applicant：三洋電機株式会社

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