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J-GLOBAL ID：200903063018489160
洗浄組成物およびそれを用いた半導体基板の洗浄方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995067983
Publication number (International publication number)：1995324199
Application date： Mar. 27, 1995
Publication date： Dec. 12, 1995
Summary：
【要約】【構成】 水を電気分解してなる電解イオン水と錯化剤(例えば、生成する錯体の水溶性が高い錯化剤と、電気陰性度の高い金属に対して錯形成する錯化剤とからなる)0.01〜2重量%及び/又は分散剤0.01〜1重量%とを含む洗浄組成物。【効果】 錯化剤と分散剤の効果により、酸性水、アルカリ性水の双方で金属、パーティクル等の汚染に対して非常に良好な洗浄力を発揮するため、半導体の電気特性の劣化を引き起こすことがない。また、安全でかつ、廃水処理コストも大幅に低減できる。
Claim (excerpt)：
水を電気分解してなる電解イオン水と錯化剤とを含むことを特徴とする洗浄組成物。
IPC (5)：
C11D 7/32
, C11D 7/34
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, H01L 21/308
Cited by examiner (6)
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