Pat
J-GLOBAL ID：200903063125607184
水素分離膜およびその製造法
Inventor：
,
,
,
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
吉田 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994196228
Publication number (International publication number)：1996038864
Application date： Jul. 29, 1994
Publication date： Feb. 13, 1996
Summary：
【要約】【目的】 SiO2薄膜を水素選択透過膜とする水素分離膜であって、水素透過選択性および水素透過速度の点においてすぐれ、しかも高温の大気中や水蒸気中でも劣化することなく安定な水素分離膜およびその製造法を提供する。【構成】 細孔内にSiO2を担持させた多孔質セラミックス膜よりなる水素分離膜が、多孔質セラミックス膜の両側に圧力差を設け、気化させたSiO2を多孔質セラミックス膜の細孔内に吸引しながらそこでSiO2化させ、細孔内に担持させて膜の外表面側をSiO2薄膜で閉塞させることにより製造される。SiO2の担持は、SiO2源としてテトラ低級アルコキシシランを用い、CVD法によって行われることが好ましい。
Claim (excerpt)：
細孔内にSiO2を担持させ、膜の外表面側をSiO2薄膜で閉塞した多孔質セラミックス膜よりなる水素分離膜。
IPC (2)：
B01D 71/02 500
, C01B 3/50
Cited by applicant (3)
-
薄膜積層多孔質アルミナ中空糸の製造法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平3-321508
Applicant：エヌオーケー株式会社
-
薄膜積層多孔質セラミックス中空糸の製造法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平6-079356
Applicant：エヌオーケー株式会社
-
多層薄膜積層多孔質セラミックス中空糸の製造法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平6-301670
Applicant：エヌオーケー株式会社
Cited by examiner (3)
-
薄膜積層多孔質アルミナ中空糸の製造法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平3-321508
Applicant：エヌオーケー株式会社
-
薄膜積層多孔質セラミックス中空糸の製造法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平6-079356
Applicant：エヌオーケー株式会社
-
多層薄膜積層多孔質セラミックス中空糸の製造法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平6-301670
Applicant：エヌオーケー株式会社
Return to Previous Page
