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J-GLOBAL ID：200903063148441585

光学素子およびその製造方法、ならびに光学素子作製用複製基板およびその製造方法

Inventor： 遠藤 惣銘 ,  林部 和弥
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 杉浦 正知
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007009628
Publication number (International publication number)：2008176076
Application date： Jan. 18, 2007
Publication date： Jul. 31, 2008
Summary：

【課題】優れた反射防止特性を有する光学素子を提供する。 【解決手段】 光学素子1には、凸部または凹部からなる構造体3が可視光の波長以下の微細ピッチで基体表面に多数設けられている。構造体3は、頂部の傾きが緩やかで中央部から底部に徐々に急峻な傾きの楕円錐形状または楕円錐台形状であり、深さ分布を有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで基体表面に多数設けられている光学素子であって、 上記構造体は、深さ分布を有することを特徴とする光学素子。

IPC (5)：

G02B 1/11 ,  G02B 5/02 ,  B29C 33/42 ,  B29C 33/38 ,  G02F 1/133

FI (6)：

G02B1/10 A ,  G02B5/02 C ,  B29C33/42 ,  B29C33/38 ,  G02F1/1335 500 ,  G02F1/1335

F-Term (38)：

2H042BA04 ,  2H042BA13 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H091FA32X ,  2H091FA37X ,  2H091FB02 ,  2H091FC17 ,  2H091FC25 ,  2H091FC26 ,  2H091FC29 ,  2H091LA03 ,  2H091LA16 ,  2H191FA40X ,  2H191FA42X ,  2H191FB02 ,  2H191FC24 ,  2H191FC35 ,  2H191FC36 ,  2H191FC41 ,  2H191LA03 ,  2H191LA21 ,  2K009AA12 ,  2K009BB24 ,  2K009DD12 ,  2K009DD15 ,  4F202AA28 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH73 ,  4F202AR13 ,  4F202CA11 ,  4F202CA30 ,  4F202CB01 ,  4F202CD03 ,  4F202CD12 ,  4F202CD24 ,  4F202CD30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 微細構造体の製造方法、電子装置の製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-054571   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 表示装置の窓材、その製造方法、及び表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-185965   Applicant：大日本印刷株式会社
• 反射防止物品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-043110   Applicant：大日本印刷株式会社
• 反射防止構造体を有する部材の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-067239   Applicant：松下電器産業株式会社
• 防眩性反射防止部材、及び光学部材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-226937   Applicant：大日本印刷株式会社