Pat
J-GLOBAL ID：200903073866638406

反射防止構造体を有する部材の製造方法

Inventor：
梅谷 誠

About 梅谷 誠

, 
田村 隆正

About 田村 隆正


Applicant, Patent owner：
松下電器産業株式会社

About 松下電器産業株式会社


Agent (1)： 小笠原 史朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005067239
Publication number (International publication number)：2006251318
Application date： Mar. 10, 2005
Publication date： Sep. 21, 2006
Summary：
【課題】 サブミクロンピッチの非常に細かなパターンを有する反射防止構造体を、X線リソグラフィを用いて容易に製造するための反射防止構造体を有する部材の製造方法を提供する【解決手段】 X線マスク1をX線の照射方向を法線とする面Lに対してθだけ傾けて配置する。この状態のX線マスク1を介して部材2の表面にX線を露光する。これにより、部材2の表面には、X線マスク1のマスクパターンpよりも小さいピッチであるpcosθのピッチを有する露光パターンが形成される。次いで、露光された部材2を現像する。これにより、部材2の表面には、X線マスク1のマスクパターンよりも微細なピッチを有する反射防止構造体が形成される。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
X線露光法により部材の表面に反射防止構造体を形成するための方法であって、 X線マスクを介して、少なくとも構造体形成面を感光性材料にて形成された部材に向けてX線を露光する露光工程と、 露光された前記部材を現像する現像工程とを備え、 前記露光工程は、前記X線マスクを前記X線の照射方向を法線とする面に対して傾けて配置した状態で当該X線を露光することを特徴とする、反射防止構造体を有する部材の製造方法。
IPC (5)：
G02B 1/11 ,  C25D 1/10 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 ,  G21K 1/06
FI (7)：
G02B1/10 A ,  C25D1/10 ,  G02B1/02 ,  G03F7/20 503 ,  G21K1/06 B ,  G21K1/06 C ,  G21K1/06 D
F-Term (12)：
2H097BB03 ,  2H097CA15 ,  2H097GB02 ,  2H097LA17 ,  2K009AA01 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD12 ,  2K009DD15 ,  2K009DD17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM