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J-GLOBAL ID：200903063277148827

塩基性で現像しうるネガチブフォトレジストおよびその使用

Inventor： エドワード・ダーコ・バービク ,  アイリーン・アン・ガリガン ,  ジエフリー・ドナルド・ジエローム ,  リチヤード・ピーター・マクガウエイ ,  シヤロン・ルイーズ・ヌーニシユ ,  ジユーリー・ロステイスラフ・パラシチヤーク ,  ラツセル・ジヨゼフ・セリーノ ,  デイビツド・フランク・ウイツトマン
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992207847
Publication number (International publication number)：1993224421
Application date： Aug. 04, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】 化学放射線への露光によりイメージ化され、水性の塩基性組成物中で現像することができるフォトレジスト組成物に関する。【構成】 このフォトレジスト組成物は、ノボラックポリマー、ポリ(p-ビニルフェノール)およびこれらの混合物からなる群より選ばれた重合体と;アミノ基と反応することのできる官能性基を含有する2-または多官能性の有機金属材料であって、オルガノシリコン、オルガノスズおよびオルガノゲルマニウムとこれらの混合物からなる群より選ばれたものと;架橋化に効果的な量の利用可能な反応性アミノ基を有するアミノ基含有重合体と;並びに前記ノボラック重合体またはポリ(p-ビニルフェノール)、前記有機金属材料および前記アミノ基含有重合体の、架橋化を開始するのに効果的な分量のカチオン性光触媒、とを含有する。この組成物はまた近UV放射線に対して組成物を感光性とする増感剤材料を含有することができる。

Claim (excerpt)：

ノボラックポリマー、ポリ(p-ビニルフェノール)およびこれらの混合物からなる群より選ばれたポリマーと;アミノ基と反応することのできる官能性基を含有する2-または多官能性の有機金属材料であって、オルガノシリコン、オルガノスズおよびオルガノゲルマニウムとこれらの混合物からなる群より選ばれたものと;架橋化に効果的な量の利用可能な反応性アミノ基を有するアミノ基含有重合体と;並びに前記ノボラック重合体またはポリ(p-ビニルフェノール)、前記有機金属材料および前記アミノ基含有重合体の、架橋化を開始するのに効果的な分量のカチオン性光触媒、とを含有するフォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

• 特開昭63-097948
  
• 特開平1-293339
  
• 特開平2-262151
  
• 特開平1-126641
  
• 特開昭63-318550
  
• 特開昭61-144639
  
• レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-208302   Applicant：富士通株式会社
• 特開平4-163552
  
• 特開平4-136858
  
• 特開平4-338757
  
• 特開平4-358155