位置決め機構

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006228680
Publication number (International publication number)：2008051674
Application date： Aug. 25, 2006
Publication date： Mar. 06, 2008
Summary：

【課題】従来の光干渉計の分解能を上回る高分解能を正確に実現する位置決め機構を実現する。【解決手段】光コムを利用して得られる第1及び第2の波長の光を、それぞれマッハツェンダー干渉計4で干渉させる際、マッハツェンダー干渉計4の測定光路中にコーナーリフレクタ1及びコーナーリフレクタ2を設け、第1の波長の光はコーナーリフレクタ1とコーナーリフレクタ2を通し、第2の波長はコーナーリフレクタ2のみを通し、コーナーリフレクタ1のみを移動させ、第1の波長の光と第2の波長の光に位相差をおこし、この位相差を0に保障するようにコーナーリフレクタ2を移動させるとき、コーナーリフレクタ2の移動量は波長1と波長2の比で決まる倍率でコーナーリフレクタ1の移動量を縮小した移動量になる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

光源において光コムを利用して得た第1及び第2の波長の光を、それぞれマッハツェンダ干渉計により干渉させて被測定体の位置決めを行う位置決め機構において、光コムをもとに光源を構成して用いることによって正確なズーム比を得ることで、被測定体の位置決めを正確に行うことを特徴とする位置決め機構。

IPC (1)：

G01B 9/02

FI (1)：

G01B9/02

F-Term (18)：

2F064AA01 , 2F064CC04 , 2F064CC05 , 2F064CC08 , 2F064EE04 , 2F064FF01 , 2F064FF02 , 2F064FF06 , 2F064GG16 , 2F064GG20 , 2F064GG22 , 2F064GG44 , 2F064GG53 , 2F064GG64 , 2F064GG70 , 2F064HH06 , 2F064JJ01 , 2F064JJ05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

特許2690041号公報

Cited by examiner (6)

高精度ステージ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-237984 Applicant：工業技術院長
距離測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-379689 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所, 株式会社トプコン
周波数安定化レーザー装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-066468 Applicant：財団法人電力中央研究所

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