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J-GLOBAL ID:200903063529343679

水素水と該水素水の製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中畑 孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002294192
Publication number (International publication number):2004122088
Application date: Oct. 07, 2002
Publication date: Apr. 22, 2004
Summary:
【課題】カルシウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム等のミネラル分又はビタミンC等を水に添加することなく、水に都市ガスやアルコール等から生成した水素ガスを一定の圧力下で溶解せしめることにより、水そのものの酸化還元電位が非常に低い水素水を得る。【解決手段】水に高周波電流を印加してクラスターサイズを縮小し、該クラスターサイズを縮小した水に水素ガスを0.1MPaから2.0MPaの圧力下で溶解させ、上記水素ガスは都市ガス又はアルコールにプラズマを当て生成したものである水素水の製造法。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
クラスターサイズを縮小した水に水素ガスを溶解させた水素水であって、酸化還元電位が-300mVから-800mVであることを特徴とする水素水。
IPC (2):
C02F1/68 ,  C02F1/48
FI (9):
C02F1/68 520B ,  C02F1/68 510B ,  C02F1/68 530A ,  C02F1/68 530K ,  C02F1/68 540E ,  C02F1/68 540F ,  C02F1/48 A ,  C02F1/48 B ,  A23L2/00 V
F-Term (15):
4B017LC03 ,  4B017LK01 ,  4B017LK03 ,  4B017LP10 ,  4B017LP18 ,  4D061DA03 ,  4D061DA04 ,  4D061DB06 ,  4D061DB20 ,  4D061EA01 ,  4D061EA18 ,  4D061FA02 ,  4D061FA03 ,  4D061FA08 ,  4D061FA09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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