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J-GLOBAL ID：200903063534244611

色素増感型太陽電池、その製造方法およびこれを用いた携帯用機器

Inventor： 御子柴 智 ,  角野 裕康 ,  米津 麻紀 ,  早瀬 修二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 大胡 典夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000159178
Publication number (International publication number)：2001160426
Application date： Mar. 31, 2000
Publication date： Jun. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】 光電変換効率が高く、軽量で可撓性を有する色素増感型太陽電池の提供。【解決手段】 半導体層4の焼結を高耐熱性の犠牲基板11表面で行い、その後、半導体層4表面に導電層2および支持基板4を形成し、得られた積層体と対向電極5を形成した対向基板10とを電荷輸送層3を介して積層することで、支持基板4に耐熱性の低いプラスチックなどを使用でき、色素増感型太陽電池の軽量化を図ることができる。また、半導体層4中の不純物が支持基板側に濃縮されるため、半導体層4の対向電極側の不純物濃度が低下し、光電変換効率を向上させることが可能になる。

Claim (excerpt)：

導電層と、色素粒子を担持し、光照射によって励起された電子および正孔のうち、いずれか一方の第1の電荷を前記導電層に伝導する半導体層と、前記導電体層との間に、前記電子および正孔のうち他方の第2の電荷を伝導する電荷輸送層を挟持する電極と、前記導電層および前記電極の少なくとも一方の面に形成された支持基板とを有する色素増感型太陽電池の製造方法において、犠牲基板上に少なくとも前記半導体層を形成する半導体形成工程と、前記半導体層を介して前記支持基板を形成する工程と、前記犠牲基板を除去する工程とを有することを特徴とする色素増感型太陽電池の製造方法。

IPC (2)：

H01M 14/00 ,  H01L 31/04

FI (2)：

H01M 14/00 P ,  H01L 31/04 Z

F-Term (12)：

5F051AA14 ,  5H032AA06 ,  5H032AS16 ,  5H032BB05 ,  5H032BB06 ,  5H032BB10 ,  5H032CC11 ,  5H032CC17 ,  5H032EE04 ,  5H032EE10 ,  5H032EE16 ,  5H032HH02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光電変換素子および光電気化学電池
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-246050   Applicant：富士写真フイルム株式会社