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J-GLOBAL ID：200903063636579138

リソグラフィーマスクブランク及びその製造方法

Inventor：
野澤 順

About 野澤 順


Applicant, Patent owner：
ホーヤ株式会社

About ホーヤ株式会社


Agent (1)： 藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001329132
Publication number (International publication number)：2002229183
Application date： Oct. 26, 2001
Publication date： Aug. 14, 2002
Summary：
【要約】【課題】 従来の熱処理では実現できない高い応力緩和効果と生産性を実現することができるマスクブランクの製造方法等を提供する。【解決手段】 マスクブランクの製造方法において、透明基板14上に少なくとも1層のレーザ光を吸収する性質を有する光吸収膜を形成し、この光吸収膜を形成した透明基板14に前記光吸収膜が吸収を有する波長のレーザ光12を照射することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するリソグラフィーマスクブランクの製造方法において、前記方法は、少なくとも1層のレーザ光を吸収する性質を有する光吸収膜を形成する工程と、この光吸収膜を形成した透明基板に前記光吸収膜が吸収を有する波長のレーザ光を照射して前記光吸収膜を加熱することにより、前記光吸収膜の内部応力を低減する工程を少なくとも含むことを特徴とするリソグラフィーマスクブランクの製造方法。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 1/08 L ,  G03F 1/08 G ,  H01L 21/30 502 P
F-Term (4)：
2H095BA07 ,  2H095BC04 ,  2H095BC24 ,  2H095BC26
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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