X線マスクの製造方法および加熱装置

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宮田金雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996154322
Publication number (International publication number)：1997180994
Application date： Jun. 14, 1996
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】 X線吸収体の膜応力は平均的には0となるが部分的には必ずしも0とならないので、所望のパターニングを得ることができないという問題点があった。【解決手段】シリコン基板1上にX線吸収体4を成膜した後のX線吸収体4の膜応力分布を測定し、X線吸収体4の各箇所における膜応力が0となる所定の温度分布となるようホットプレート8の各ヒータ9a、9b、9cの電気入力を変化させ、X線吸収体4のアニールによる加熱を行うものである。

Claim (excerpt)：

基板上にX線吸収体を成膜した後、アニールにより膜応力を調整するX線マスクの製造方法において、成膜後の上記X線吸収体の膜応力分布を測定し、上記X線吸収体の各箇所における膜応力が0となる所定の温度分布で上記アニールによる加熱を行うことを特徴とするX線マスクの製造方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 1/16 , H01L 21/324

FI (3)：

H01L 21/30 531 M , G03F 1/16 A , H01L 21/324 D

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

X線マスクの製造方法及び製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-039374 Applicant：富士通株式会社
X線マスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-139318 Applicant：富士通株式会社
X線マスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-132244 Applicant：富士通株式会社

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Cited by examiner (6)

X線マスクの製造方法及び製造装置
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