プラズマ処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997255785
Publication number (International publication number)：1999097422
Application date： Sep. 19, 1997
Publication date： Apr. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明はプラズマにより成膜やエッチングの処理を行なうプラズマ処理装置に関し、チャンバの洗浄周期を長くすることを課題とする。【解決手段】石英チャンバ42に誘導結合型のアンテナ44を有し、このアンテナ44に電力を供給して石英チャンバ42内にプラズマ60を発生しウエハ54を処理するプラズマ処理装置において、前記アンテナ44を形成するコイルの両端66,68と、アンテナ44の整合をとるためのマッチング回路ま46との間に、前記コイル両端66,68を電気的に切り換える切り換え回路70を設けた構成とする。

Claim (excerpt)：

チャンバに誘導結合型のアンテナを有し、該アンテナに電力を供給して該チャンバ内にプラズマを発生し半導体を処理するプラズマ処理装置において、前記アンテナを形成するコイルの両端と、アンテナの整合をとるための回路との間に、前記コイル両端を電気的に切り換える切り換え手段を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/3065 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (5)：

H01L 21/302 B , C23C 16/50 , C23F 4/00 A , H01L 21/205 , H05H 1/46 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

誘導結合モードと静電結合モードとを併用する高密度プラズマCVDリアクタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-106138 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
プラズマ処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-253566 Applicant：株式会社神戸製鋼所
特開平1-110734

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