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J-GLOBAL ID：200903063729098253

グレートーンマスク及びその製造方法

Inventor：
井村 和久

About 井村 和久


Applicant, Patent owner：
ホーヤ株式会社

About ホーヤ株式会社


Agent (1)： 藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000395786
Publication number (International publication number)：2002196474
Application date： Dec. 26, 2000
Publication date： Jul. 12, 2002
Summary：
【要約】【課題】 グレートーンマスクを使用する露光機の解像限界以下の微細遮光パターンで構成されるグレートーン部を有するグレートーンマスクを用いたパターン転写プロセスの実用化を目的とする。【解決手段】 例えば、グレートーン部3と接する遮光パターン1の輪郭形状に沿って、グレートーン部3側に輪郭パターン30を形成する。
Claim (excerpt)：
遮光部と、透過部と、マスクを使用する露光機の解像限界以下のパターン寸法を有する遮光パターンを配列した領域であってこの領域を透過する露光光の透過量を低減させるグレートーン部とを有するグレートーンマスクであって、前記グレートーンマスクは、少なくとも遮光部及び/又は透過部とグレートーン部とが隣接する境界部分を有し、前記遮光部及び/又は前記透過部の輪郭形状が屈曲部分を含み、遮光部との境界にあってはその境界部分の近傍であってグレートーン部側に、あるいは透過部との境界にあってはその境界部分を含む領域又は境界部分の近傍に、前記遮光部及び/又は前記透過部の輪郭に沿ってライン状に形成された輪郭パターンを有することを特徴とするグレートーンマスク。
IPC (3)：
G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 1/08 G ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 G
F-Term (11)：
2H095BA12 ,  2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  2H097BB01 ,  2H097JA02 ,  2H097LA12 ,  5F046AA26 ,  5F046CB17 ,  5F046DA02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (4)
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