基板処理装置の真空管路のインシチュ・クリーニング用のマイクロ波装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997299040
Publication number (International publication number)：1998150032
Application date： Oct. 30, 1997
Publication date： Jun. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】基板処理チャンバの排気管路内の堆積を最小化する装置を提供する。【解決方法】この装置は、相対する表面を有しその間に流体導管を画成する第1及び第2部材を含む。流体導管は入口、出口、及び前記入口と前記出口の間の集塵チャンバとを有する。装置は入口で基板処理チャンバの排気を受け取るように接続し、集塵チャンバは、流体導管内を流れる粉粒体を捕捉しかつ粉粒体が集塵チャンバから流出しないように、構成され調整される。マイクロ波プラズマ発生システムは流体導管内にマイクロ波エネルギを供給し、流体導管内のエッチング・ガスからプラズマを形成させる。プラズマから生じる成分は、集塵チャンバで補集された粉粒体と反応し、流体導管からポンプで排出できるガス状生成物を形成する。装置はさらに静電集塵機を含み、集塵チャンバ内での微粒子の捕捉を増強し、粉粒体の流出をさらに防止する。

Claim (excerpt)：

流体導管を画成する相対する表面を有する第1及び第2部材であって、前記流体導管は入口、出口、及び前記入口と前記出口の間の集塵チャンバを有し、前記流体導管内を流動する粉粒体を前記集塵チャンバで補集しかつ前記粉粒体が集塵チャンバから流出するのを防止するように、前記集塵チャンバを構成及び配列して成る前記第1及び第2部材と、前記流体導管内のエッチング・ガスからプラズマを形成又は維持するように適応させたマイクロ波プラズマ発生システムと、を備える基板処理チャンバの排気管路内の堆積を最小化する装置。

IPC (4)：

H01L 21/31 , C23C 16/44 , H01L 21/205 , C23F 4/00

FI (4)：

H01L 21/31 C , C23C 16/44 J , H01L 21/205 , C23F 4/00 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

CVD装置の排気ガスの異物捕獲方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-034123 Applicant：日立電子エンジニアリング株式会社
特開平2-125876
特開平2-271527

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Cited by examiner (7)

CVD装置の排気ガスの異物捕獲方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-034123 Applicant：日立電子エンジニアリング株式会社
特開平1-307429
特開平2-125876

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