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J-GLOBAL ID：200903063804348651

分散制御装置、システム及びコントローラ

Inventor： 山岡 弘昌 ,  渡部 満 ,  笠原 孝保 ,  柴田 克成 ,  松原 清 ,  諸岡 泰男 ,  舩橋 誠壽
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995012293
Publication number (International publication number)：1996202409
Application date： Jan. 30, 1995
Publication date： Aug. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】分散制御システムにおいて、多種多様な制御機能を有したコントローラを実現すること。【構成】コントローラを数値演算,シーケンス演算,ニューラルネット(NN),ファジィなどを実行する複数のプロセッサで構成する。コントローラはLSI化技術により小型化する。さらに、プロセッサ機能、I/O機能をプログラマブルにすることにより柔軟性を増す。プログラムが簡単な標準プログラムとNN等の学習モデルを組み込んで、計算される複数の出力を、重み付けして加算することによって出力データを生成する。かつ該重み付けの値を学習によって更新していく。【効果】本発明により、数値演算制御,シーケンス制御,NN応用制御,ファジィ応用制御など多種多様な制御機能を有した分散制御システム及びそれに用いるコントローラを実現することができる。

Claim (excerpt)：

複数の制御対象機器を有するプロセスの制御装置において制御対象機器に制御指令を発するコントローラを各制御対象機器に対応して現場設置したことを特徴とする分散制御装置。

IPC (3)：

G05B 15/02 ,  G06F 15/16 370 ,  G06F 15/16 470

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 分散形制御システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-054321   Applicant：株式会社東芝
• プロセスコントローラ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-026979   Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (2)

• 分散形制御システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-054321   Applicant：株式会社東芝
• プロセスコントローラ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-026979   Applicant：株式会社日立製作所