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J-GLOBAL ID：200903063840333415

浄水システム

Inventor：
吉川 慎一

About 吉川 慎一

, 
平野 大助

About 平野 大助

, 
常住 卓也

About 常住 卓也


Applicant, Patent owner：
日立プラント建設株式会社

About 日立プラント建設株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002042706
Publication number (International publication number)：2003236558
Application date： Feb. 20, 2002
Publication date： Aug. 26, 2003
Summary：
【要約】【課題】砂濾過池の洗浄排水を効率よく処理し、洗浄排水の回収率(浄水効率)を高める。【解決手段】洗浄排水処理設備10の凝集沈殿池20には砂濾過池16から洗浄排水22が流入され、濃縮汚泥32と上澄水26に高速分離される。濃縮汚泥32は排泥池18にて引き抜き汚泥15とともに貯水された後、汚泥膜分離装置40に流入され、回転平膜分離装置50にて膜分離水44が形成される。膜分離水44は着水井12に還流される。一方、凝集沈殿池20の上澄水26は上澄水膜分離装置28にて膜濾過され、処理水30として着水井12に還流される。膜濾過された膜分離水44および処理水30が着水井12に還流されることで、砂濾過池16における処理負荷が増大することを防止できる。
Claim (excerpt)：
砂濾過池を有する浄水製造設備と前記砂濾過池の洗浄排水を処理する洗浄排水処理設備とを備えた浄水システムにおいて、前記洗浄排水処理設備は、前記洗浄排水を上澄水と濃縮汚泥に分離させる凝集沈殿池と、前記濃縮汚泥を膜分離処理する汚泥膜分離装置と、を備え、前記上澄水と前記汚泥膜分離装置で膜分離された膜分離水とを前記浄水製造設備の入口側に還流させることを特徴とする浄水システム。
IPC (7)：
C02F 1/52 ,  B01D 61/58 ,  B01D 63/02 ,  B01D 63/08 ,  B01D 63/16 ,  C02F 1/44 ,  C02F 11/12
FI (7)：
C02F 1/52 K ,  B01D 61/58 ,  B01D 63/02 ,  B01D 63/08 ,  B01D 63/16 ,  C02F 1/44 K ,  C02F 11/12 E
F-Term (41)：
4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA41 ,  4D006HA84 ,  4D006HA93 ,  4D006JA01 ,  4D006JA55Z ,  4D006JA56Z ,  4D006JA67Z ,  4D006KA01 ,  4D006KA52 ,  4D006KA54 ,  4D006KA57 ,  4D006KB13 ,  4D006KB15 ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006MC02 ,  4D006MC03 ,  4D006MC22 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB08 ,  4D006PB15 ,  4D006PB24 ,  4D015BA19 ,  4D015BA23 ,  4D015BB05 ,  4D015DA04 ,  4D015EA32 ,  4D015FA01 ,  4D015FA02 ,  4D015FA03 ,  4D015FA16 ,  4D015FA17 ,  4D059AA03 ,  4D059BE06 ,  4D059BE42 ,  4D059BE51 ,  4D059CA28
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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