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J-GLOBAL ID:200903063909632525
超純水製造方法および超純水製造装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997277534
Publication number (International publication number):1999114596
Application date: Oct. 09, 1997
Publication date: Apr. 27, 1999
Summary:
【要約】【課題】 原水の水質変動に対応してTOCおよび導電率の低い超純水を製造する。【解決手段】 第1水槽31は、底部が連通している嫌気有機物処理室39と好気有機物処理室40とを有する。そして、両室39,40の上部には活性炭袋43を配置する一方、下部には備長炭44を充填している。こうして、微生物によって、被処理水中の炭素化合物や有機窒素化合物を生物処理してTOCを低減する。さらに、嫌気性微生物によって、有機窒素化合物処理時に生じた硝酸性窒素を脱窒して処理水の導電率を低減する。両活性炭塔32,33は、好気有機物処理室40からの被処理水中の残存炭素化合物や残存有機窒素化合物に対する高度処理を行う。調節計56は、TOC計55からの信号に基づいて被処理水の循環量および被処理水の撹拌量を制御し、処理水の水質を確保する。
Claim (excerpt):
原水を前処理した後に、1次純水製造装置および2次純水製造装置に順次導入して超純水を製造する超純水製造方法において、上記前処理では、水中撹拌手段によって被処理水に循環流を形成し、この循環流の下向流中において嫌気生物処理を行い、曝気手段によって上記嫌気生物処理後の被処理水に循環流を形成し、この循環流の下向流中において好気生物処理を行うことを特徴とする超純水製造方法。
IPC (6):
C02F 9/00 501
, C02F 9/00 502
, C02F 9/00
, C02F 9/00 503
, C02F 3/10
, C02F 3/30
FI (7):
C02F 9/00 501 F
, C02F 9/00 502 F
, C02F 9/00 502 H
, C02F 9/00 502 N
, C02F 9/00 503 B
, C02F 3/10 Z
, C02F 3/30 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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超純水製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-225681
Applicant:栗田工業株式会社
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特開昭60-251998
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