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J-GLOBAL ID:200903063983929343

ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石田 敬 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001093727
Publication number (International publication number):2001343748
Application date: Mar. 28, 2001
Publication date: Dec. 14, 2001
Summary:
【要約】【課題】 塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 ネガ型レジスト組成物において、アルカリ可溶性樹脂の構造中もしくはアルカリ可溶性樹脂に併用される化合物の構造中に、次式(1)で表されるオキセタン構造:【化1】が含まれるように構成する。
Claim (excerpt):
アルカリ可溶性樹脂を基材樹脂として含むネガ型レジスト組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂の構造中もしくは前記アルカリ可溶性樹脂に併用される化合物の構造中に、次式(1)で表されるオキセタン構造:【化1】が含まれることを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (5):
G03F 7/038 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/06 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/075 521
FI (5):
G03F 7/038 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/06 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/075 521
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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