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J-GLOBAL ID：200903063992877585

レーザプラズマ光源

Inventor： 永井 宏明
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994302085
Publication number (International publication number)：1996162053
Application date： Dec. 06, 1994
Publication date： Jun. 21, 1996
Summary：

【要約】【目的】 レーザ入射光学系への不所望なターゲット物質の付着を有効に防止できるレーザプラズマ光源を提供する。【構成】 レーザ入射光学系を介してターゲット105上にレーザ光101を集光してプラズマを生成し、該プラズマからX線を発生させるようにしたレーザプラズマ光源において、前記レーザ入射光学系のうち、ターゲット105に最も近い光学素子を反射鏡102をもって構成し、かつ該反射鏡102をターゲット105とともに真空容器104内に配置する。

Claim (excerpt)：

レーザ入射光学系を介してターゲット上にレーザ光を集光してプラズマを生成し、該プラズマからX線を発生させるようにしたレーザプラズマ光源において、前記レーザ入射光学系のうち、前記ターゲットに最も近い光学素子を反射鏡をもって構成し、かつ該反射鏡を前記ターゲットとともに真空容器内に配置したことを特徴とするレーザプラズマ光源。

IPC (2)：

H01J 35/22 ,  H05G 2/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭57-150000
  
• X線光源装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-257640   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 特開平4-112498